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碳化硅:第三代半导体与耐磨陶瓷双料选手

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  • 来源:新材料网

一、定义

碳化硅(SiC)是由硅与碳组成的共价化合物陶瓷,硬度接近金刚石,是第三代半导体与高温结构陶瓷的代表材料。

二、原理

强共价键与宽禁带使其兼具高击穿场强、高热导率与化学惰性;单晶用于功率器件,多晶烧结体用于耐磨耐蚀部件,一材两用特征鲜明。

三、性能参数对比

指标典型值说明
禁带宽度约 3.26 eV约为硅的 3 倍
热导率约 120 至 200 W/(m·K)远高于硅
莫氏硬度约 9.5仅次于金刚石
击穿场强约 10 倍于硅支持更高耐压

四、应用场景

碳化硅用于新能源汽车功率模块(SiC MOSFET)、光伏逆变器、5G 射频、密封件与喷嘴、窑具以及防弹装甲,是能源与信息装备升级的关键使能材料。

五、常见问题

问:SiC 器件比硅器件好在哪?

答:宽禁带带来更高耐压、更低损耗与更好高温性能,可缩小体积并提升能效。

问:碳化硅陶瓷为什么耐磨?

答:其高硬度与强共价键使表面极难被划伤,适合苛刻磨损工况。

问:4H 和 6H 碳化硅是什么?

答:是按晶型区分的衬底,4H-SiC 更适功率器件,6H 多用于部分射频场景。

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